又带有国产之光系统,但这并不代表他是万能的,光刻胶他可没学过。
朱明月闻言,淡淡一笑解释道:“曝光波长193纳米,说明它支持193深紫外光,也就是DUV光刻机的曝光,技术节点及应用N40纳米-7纳米 PTD L/S,可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”
“工艺能力CD:0.063um是分辨率,而工艺能力THK:0.16-0.24um则是涂抹厚度。”
陈星理解能力很强,在听了讲解以后,立马抓住重点道:“也就是说,这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶?”
“是的。”
朱明月点了点头,继续抛出这款光刻胶的底细道:“因为考虑到我们没有EUV光源,所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”
“如果要用一句话概括,那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”
(本章完)
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