沐阳了解到的国内晶圆和芯片工艺技术水平情况暂时是这样,这是他让公司相关部门去调查收集到的资料,他要先了解国内外情况。
星海集团要搞晶圆生产,肯定是从12英寸晶圆开始,芯片工艺从28nm开始,否则就没有进入这个行业的必要。
在后世,沐阳也了解过,芯片制造并不一定采用光刻机和蚀刻设备,比如电子束光刻技术,精度上完爆了euv光刻技术,只是在2022年那会刚突破,没法批量生产。
沐阳也查了一下,的确有电子束光刻技术,同样没法实现批量生产问题,但可以实验室生产,用于量子计算机。
如果他打算商业化的话,目前还是得走光刻机这条线,等时机一到,可以采用电子束光刻技术,直接弯道超车,还用什么狗屁光刻机。
这个时机,也许就是7级阅读系统。
但就算可以使用电子束光刻技术生产10nm线宽以下工艺芯片,但商用市场上还并不用这么尖端。
沐阳的预期是,哪怕精度低一些也可以,只要能量产,成本能降下来就可以了,不用去搞什么狗屁光刻机了。
现在光刻机这条线的技术专利估计都被申请通了,就算星海集团能做出光刻机之类设备又怎么样,如果不能绕过对方的专利覆盖,如果对方不授权,他是没法使用自己研发的光刻机生产。
除非,星海集团能够绕开对方光刻机的专利覆盖,这条路,太难走了。
指望对方授权专利,那不可能的,沐阳心里莫名其妙就有一股憋屈感。
所以说,现在沐阳指望7级阅读系统了。
离计划升级7级阅读系统,估计就能在年底实现。
目前也不急,先搞出晶圆再说。
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